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In questo documento viene descritto uno studio sperimentale della deposizione di vapore chimico (CVD) di TiB2 dalla riduzione dell'idrogeno di TiCl4 e BCl3 con lo scopo di ottenere molto spessa (oltre 100 micron) e rivestimenti uniformi. Le condizioni ottimali di deposizione erano le seguenti: temperatura 900-950 ° C; rapporti di fonte di gas, u0026 lt; img height = border '30' = '0' style = 'vertical-align: bottom' width = '107' alt = '' title = 'src =' http ': // origine-ars. els-cdn.com/content/image/1-s2.0-0040609082902292-si1.gif'u0026gt; e u0026 lt; img height = border '30' = '0' style = 'vertical-align: bottom' width Fitch Abercrombie Donne Felpe con cappuccio Athletics Royal Blu = '108' Plaid Lungo Camicie Fitch Uomo Royal Blu Rosso alt = '' title = '' src = 'http: //origin-ars.els-cdn .com / content / immagine / 1-s2.0-0040609082902292-si2.gif 'u0026 gt ;. Con queste condizioni, tassi di deposizione sono stati ottenuti superiore a 25 micron h-1. La composizione era molto uniforme con un eccesso di boro sopra stechiometria (probabilmente sotto forma di boro libera). Una piccola quantità di cloro rimase incorporato nel deposito probabilmente TiCl2 (0,05 wt.% A 950 ° C). I rivestimenti sono molto duri (circa 3700 kgf mm-2) e la durezza era uniforme attraverso lo spessore. Con un attento controllo dei parametri di deposizione, la CVD di rivestimenti uniformi, con spessore pari o superiore a 1 mm appare fattibile.
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